Als verantwortungsbewusster Hersteller von Konkave Polierpolster, Garantie -Glas -Substrate, Metallpolierpads Und ein wertvoller Partner, wir haben immer umsichtig und professionell gehandelt und unser Image mit konkreten Handlungen aufgebaut. Unser Produktdesign- und Entwicklungsteam muss die Details der einzelnen Produkte kontrollieren, um sicherzustellen, dass unsere Produkte Kunden die beste Erfahrung machen können. In Bezug auf Produktion und FertigungNäherungssensor-Glassubstrate Wir haben strenge Qualitätsstandards, um sicherzustellen, dass jedes Produkt nach höchsten Standards hergestellt wird. Wir werden weiterhin fortschrittliche Technologien anbieten, hervorragende Produkte kreieren, herausragende Talente fördern und den Wert des Kundendienstes verbessern. Das Zurückgeben der Gesellschaft und die effektive Lösung der Entwicklungsherausforderungen der Gesellschaft ist eine wichtige Möglichkeit für uns, eine nachhaltige Entwicklung zu erreichen. Wir schaffen aktiv ein ökologisches Umfeld um grüne Entwicklung, ein sicheres und gesundes Arbeitsumfeld und ein faires und nur berufliches Wachstumsumfeld. Unser Fokus auf Innovation und Kreativität ermöglicht es uns, unseren Kunden innovative Lösungen zu liefern. Unser Fokus auf Innovation und Technologie ermöglicht es uns, den Bedürfnissen unserer Kunden innovative Lösungen zu bieten. Unsere hochmodernen Einrichtungen und Technologien ermöglichen es uns, schnell und effizient qualitativ hochwertige Produkte und Dienstleistungen bereitzustellen.
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Korrosionsbeständiges GlassubstratUnter Verwendung einer speziellen Glasmaterialformel erfolgt sie mit hohem Temperaturschmelzen und speziellen chemischen Behandlungsprozessen, wodurch es sehr resistent gegen häufige Säure-Base-...Mehr
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SiliziumkarbidpulverHohe Härte: Die MOHS -Härte beträgt 9. Dadurch funktioniert es in Anwendungen wie Schleifen und Schneiden gut und kann effektiv schleifende und verarbeitende Materialien verarbeiten.Mehr
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Bor -Carbide -PulverHohe Härte: Borcarbide hat eine Härte, die nur für Diamant- und Kubikbor -Nitrid mit einer MOHS -Härte von 9,3 ist. Dies macht es hervorragend beim Schleifen, Schneiden und anderen Feldern und...Mehr
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DiamantsuspensionenHohe Härte: Diamond hat eine extrem hohe Härte mit einer MOHS -Härte von bis zu 10, die verschiedene Materialien effektiv mahlen und schneiden und gut im Schleif- und Polierprozesse abschneiden kann.Mehr
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Dünnfilm -BindungswachsDünnfilmklebeswachs eignet sich für den Bindungsprozess von optischem Glas, Saphir, Kristall, Halbleitermaterialien wie Siliziumwafern, Germanium -Wafern, Siliziumkarbid, Lithiumniobat, Lithium...Mehr
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Glas -Glas -SubstratDer Rauheitsbereich wird zwischen ra 0. 5-1. 5 μm, was der Adhäsion und gleichmäßigen Verteilung von abrasiven Partikeln förderlich ist, um die Effizienz des Schleifprozesses zu gewährleisten und...Mehr
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Rilled erweiterte PolyurethanpolierkissenIm Präzisionsbearbeitungsfeld der modernen materiellen Oberflächenbehandlung sind gerillte Polyurethan-Polierpads für viele Branchen zu einem entscheidenden Verbrauchsmaterial geworden, um...Mehr
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Plüsch -StoffpolierkissenIm Bereich der feinen Verarbeitung der materiellen Oberflächenbehandlung sind Präzisionspolierkissen ein Schlüsselelement für die hervorragende Oberflächenqualität und werden in Branchen wie...Mehr
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Aufhängung auf Ölbasis FlüssigkeitAufhängung auf Ölbasis ist ein stabiles System, das durch gleichmäßig dispergierende verschiedene feste Partikel in einer kontinuierlichen Phase von Ölsubstanzen gebildet wird. Es spielt eine...Mehr
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Ethan-Diol-PolierflüssigkeitEthylenglykol als Hauptkomponente weist eine gute Löslichkeit und chemische Stabilität auf, die eine stabile Flüssigphasenumgebung für andere Additive bereitstellen kann, um eine gleichmäßige...Mehr
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Kolloidale Silica -PolierflüssigkeitDie Siliziumdioxidpolierlösung ist ein Schlüsselpoliermedium auf dem Gebiet der Präzisionsherstellung mit nanoskaligen Siliziumdioxidpartikeln als Hauptabrasive und verschiedenen Additive. In der...Mehr
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Chemische PolierflüssigkeitDas Arbeitsprinzip der polierenden und polierenden Polierlösung des Halbleiterpolierens ist chemische mechanische Synergie. Während des Polierprozesses werden die Schleifpartikel in der...Mehr
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