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  • 75+ Teammitglieder

  • 50+ Bewerbungsmaterialien

  • 15+ Jahre Erfahrung

  • 1000㎡ Produktionsfabrik

  • 33+ Patentechnologie

about

Hisemi: Ein innovativer Führer im Läpsen und Polieren von Halbleiter und Polieren

Hisemi Technology (Peking) Co., Ltd. besteht aus einem Team von Wissenschaftlern mit mehr als 15 Jahren technischer Erfahrung und Personal mit vielen Jahren des Marktbetriebs. Das technische Kernpersonal hat mehr als 50 Patente auf verschiedenen Ebenen beantragt, und einige Ingenieure haben viele Jahre Erfahrung im Betrieb von Logitech -PM5-, PM6- und LP50 -Läden- und Poliermaschinen.

  • Lädermaschine
  • CMP -Maschine
  • CMP -Maschine
  • Logitech PM5
Über uns

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beliebte Produkte

Hochwertige Produkte, hervorragende Technologie.

Unsere Branchendienste

Es ist entschlossen, ein vertrauenswürdiger strategischer Partner in der globalen Halbleiterindustrie zu werden und zur kräftigen Entwicklung der Halbleiterindustrie beizutragen.
Tarpaulin Rolls
Läpst -Poliermaschine
Die Ausrüstung kann auch mit einem Online-Echtzeit-Überwachungssystem (z. B. Druck, Geschwindigkeit, Temperatur) ausgestattet werden, um die Prozessstabilität und qualitativ hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten.
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Läsions- und Polierzubehör
Der von Hemei Semiconductor für Polier- und Poliermaschinen sorgfältig gefertigte Gusseisen -Scheibenreparaturblock ist die Kernkomponente, die eine hohe Präzision und Stabilität im Polierprozess gewährleistet.
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Pulvern läutet
Es verfügt über starke technische Fähigkeiten im Substrat -Dünnungs- und Polierprozess des Halbleitermaterials und kann Ihre nachfolgende Vorbereitung und Verpackungsprozesse für Geräte und Verpackungen solide unterstützen.
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Bindungswachs
Dünnfilmklebeswachs eignet sich für den Bindungsprozess von optischem Glas, Saphir, Kristall, Halbleitermaterialien wie Siliziumwafern, Germanium -Wafern, Siliziumkarbid, Lithiumniobat, Lithium -Tantalat, Metalle, piezoelektrischer Ceramic usw. im Schleifen- und Polierprozess .
Tarpaulin Rolls
Glassubstrate
Der Rauheitsbereich wird zwischen ra 0. 5-1. 5 μm, was der Adhäsion und gleichmäßigen Verteilung von abrasiven Partikeln förderlich ist, um die Effizienz des Schleifprozesses zu gewährleisten und übermäßiges Kratzen und Schaden zu vermeiden auf die Oberfläche des verarbeiteten Materials aufgrund übermäßiger Rauheit.

Unsere Produktvorteile

Hemei Semiconductor hält sich an das Konzept der Innovation und Qualität und bietet qualitativ hochwertige Geräte und Lösungen für die globale Fertigungsindustrie.
Fortgeschrittene Ausrüstung
Die Einführung von erstklassigen Geräten in Verbindung mit unabhängig entwickelten intelligenten Steuerungssystemen zeigt eine außergewöhnliche Stärke.
Globaler Versand
Unsere Produkte sind weit verbreitet auf dem Markt und verkaufen sich sowohl im Inland als auch international gut und haben einen guten Ruf in der Halbleiterindustrie.
Benutzerdefinierte Dienste
Ausgezeichnete Produktservice, eine reichhaltige Produktlinie, die Abdeckung großer und kleiner Läder -Maschinen und Bereitstellung maßgeschneiderter Lösungen.
Professionelles Team
Das Mitarbeiterteam besteht aus professionellen Eliten aus mehreren Bereichen wie mechanischer Fertigung, Elektrotechnik und Materialwissenschaft.
Hemei Semiconductor (Peking) Technology Co., Ltd.: Innovationsleiter im Semiconductor -Schleif- und Polierfeld
Umfassende technologische Vorteile befähigen alle Aspekte der Halbleiterproduktion
Kontaktieren Sie uns

Semiconductor-Substratmaterialien: Grundlage für hochwertige Produkte

Als Grundlage des gesamten Halbleiterherstellungsprozesses ist die Qualität der Halbleiter -Substratmaterialien von entscheidender Bedeutung. Mit hochpräzisen Schleif- und Poliertechnologie ist Hemei Semiconductor wie ein erfahrener Handwerker, der die Oberfläche jedes Substratmaterials akribisch schnitzt. Durch präzise Kontrolle wurden die Atomebene der Flachheit und Gleichmäßigkeit der materiellen Oberfläche erreicht, die eine nahezu perfekte "Leinwand" für die nachfolgende Herstellung von Wafer liefert, wodurch nachfolgende Probleme, die durch Substratoberflächendefekte verursacht werden .

author Muthuraja

Waferherstellung: Verbesserung von Qualität und Leistung Verbesserung

Im komplexen und kritischen Prozess der Waferherstellung ist die fortschrittliche Technologie des Hemei -Halbleiters wie ein präziser Leiter, der die Temperatur und den Druck während des Schritts Schritt für Schritt reguliert. Durch genaue Einstellung jedes Parameters wurde eine präzise Verarbeitung des Wafers erreicht, was zu einem Fehlerbereich der Nanometerpegel in der Größengenauigkeit des Wafers führte. Gleichzeitig wurde die Oberflächenqualität erheblich verbessert, was den Wafer wie ein wunderschönes Kunstwerk macht und eine solide Garantie für die Herstellung von Hochleistungschips bietet.

author Muthuraja

Halbleitergeräte: Erreichen Sie hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit

Die Leistung und Zuverlässigkeit von Halbleitergeräten wirkt sich direkt auf die Gesamtqualität des Halbleiterprodukts aus. Der hochpräzise Schleifungs- und Polierprozess von Hemei-Halbleiter spielt hier eine Schlüsselrolle, wie ein delikates chirurgisches Messer, das Mikroschnitzen auf Geräten durchführt. Durch Entfernen kleiner Defekte auf der Oberfläche des Geräts und der Optimierung seiner Mikrostruktur wird die Leistung des Geräts erheblich verbessert, und die Zuverlässigkeit wird erheblich verbessert, wodurch der stabile Betrieb elektronischer Produkte eine Kernunterstützung bietet.

author Muthuraja
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Wir versprechen, Ihnen die richtige Ausrüstung zu finden

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