Unsere kontinuierliche Investition in weiche Polierpads, kleine Glassubstrate, Läppen und Polieren zum Läppen und Polieren von implantierbaren Oberflächen , einschließlich Produktforschung und -entwicklung, Marktentwicklung und Marketing, lässt uns die Branche mit neuen Augen betrachten. Unser Unternehmen kontrolliert streng die Qualität, verbessert die Produktqualität und legt einen angemessenen Preis auf der Grundlage des Marktes fest.große Mengen an Läpppulver wurde von Kunden weithin gelobt. Wir werden uns mit der Zeit weiterentwickeln und entwickeln, Innovationen festhalten und die bestehenden und potenziellen Kunden zufriedenstellende Produkte und Dienstleistungen konsequent bringen. Unser Unternehmen hat einen kontinuierlichen, schnellen und robusten Entwicklungstrend beibehalten, und die Skala hat sich erweitert. Unser Unternehmen verfügt über eine starke technische Kraft, ein solides FuE -System, fortschrittliche Technologie und Ausrüstung sowie eine starke unabhängige F & E- und Innovationsfähigkeit. Unser Unternehmen ist verpflichtet, in die laufende Ausbildung und Entwicklung unserer Mitarbeiter zu investieren, um sicherzustellen, dass sie über die Tools verfügen, die sie benötigen, um erfolgreich zu sein. Wir glauben daran, langfristige Beziehungen zu unseren Kunden auf der Grundlage gegenseitiger Nutzen und Vertrauen zu fördern. Mit jahrelanger Erfahrung im internationalen Handel sind wir vertrauenswürdige Partner mit einem Ruf für hervorragende Leistungen.
  • Diamantsuspensionen
    Hohe Härte: Diamond hat eine extrem hohe Härte mit einer MOHS -Härte von bis zu 10, die verschiedene Materialien effektiv mahlen und schneiden und gut im Schleif- und Polierprozesse abschneiden kann.
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  • Siliziumkarbidpulver
    Hohe Härte: Die MOHS -Härte beträgt 9. Dadurch funktioniert es in Anwendungen wie Schleifen und Schneiden gut und kann effektiv schleifende und verarbeitende Materialien verarbeiten.
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  • Aluminiumoxidpulver
    Aussehen: Es ist normalerweise ein weißes oder aus weißes amorphes Pulver, und seine Partikelgröße und -form können je nach verschiedenen Vorbereitungsmethoden und Prozessbedingungen variieren
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  • Ceriumoxidpulver
    Aussehen: Es ist normalerweise ein weißes oder leicht gelbes Pulver, und wenn die Reinheit zunimmt, kommt die Farbe näher an Weiß.
    Dichte: Die Dichte ist relativ hoch, ca. 7,13 g/cm ³, was in...
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  • Bor -Carbide -Pulver
    Hohe Härte: Borcarbide hat eine Härte, die nur für Diamant- und Kubikbor -Nitrid mit einer MOHS -Härte von 9,3 ist. Dies macht es hervorragend beim Schleifen, Schneiden und anderen Feldern und...
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  • Glas -Glas -Substrat
    Der Rauheitsbereich wird zwischen ra 0. 5-1. 5 μm, was der Adhäsion und gleichmäßigen Verteilung von abrasiven Partikeln förderlich ist, um die Effizienz des Schleifprozesses zu gewährleisten und...
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  • Korrosionsbeständiges Glassubstrat
    Unter Verwendung einer speziellen Glasmaterialformel erfolgt sie mit hohem Temperaturschmelzen und speziellen chemischen Behandlungsprozessen, wodurch es sehr resistent gegen häufige Säure-Base-...
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  • Chemcloth Polishing Tuch
    Reine chemische Polierkissen bestehen aus speziellen chemischen synthetischen Materialien, und die Oberfläche enthält reichlich aktive chemische Gruppen. Diese funktionellen Gruppen können...
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  • Einfach erweitertes Polyurethan -Polierpad
    Polyurethan -Polierkissen als weit verbreitete Verbrauchsmingung in modernen industriellen Präzisionsbearbeitung bieten effiziente und zuverlässige Lösungen für das Oberflächenpolieren...
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  • Rilled erweiterte Polyurethanpolierkissen
    Im Präzisionsbearbeitungsfeld der modernen materiellen Oberflächenbehandlung sind gerillte Polyurethan-Polierpads für viele Branchen zu einem entscheidenden Verbrauchsmaterial geworden, um...
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  • Ethan-Diol-Polierflüssigkeit
    Ethylenglykol als Hauptkomponente weist eine gute Löslichkeit und chemische Stabilität auf, die eine stabile Flüssigphasenumgebung für andere Additive bereitstellen kann, um eine gleichmäßige...
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  • Chemische Polierflüssigkeit
    Das Arbeitsprinzip der polierenden und polierenden Polierlösung des Halbleiterpolierens ist chemische mechanische Synergie. Während des Polierprozesses werden die Schleifpartikel in der...
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